| Numéro |
2013
UVX2012 - 11e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
|
|
|---|---|---|
| Numéro d'article | 02002 | |
| Nombre de pages | 5 | |
| Section | Affiches | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/uvx/201302002 | |
| Publié en ligne | 9 avril 2013 | |
Génération d'harmoniques d'ordre élevé en régime de forte focalisation à 100 kHz
Univ. Bordeaux, CEA, CNRS, CELIA, UMR 5107, 33400 Talence, France
De nombreuses applications nécessitent des sources XUV à haut taux de répétition avec un important nombre de photons XUV par impulsion. Potentiellement ces sources peuvent être obtenues par génération d'harmoniques d'ordre élevé avec un laser fondamental à haute cadence. Cependant, la faible énergie et la longue durée des impulsions délivrées par ces systèmes laser exigent de focaliser fortement le faisceau fondamental afin d'atteindre des éclairements adéquats pour la génération d'harmoniques (∼ 1014 W/cm2). Ceci s'avère généralement défavorable pour l'efficacité du processus qu'il convient d'optimiser. Dans ce travail, une étude numérique permet de définir des conditions générales d'optimisation de la génération d'harmoniques en forte focalisation et nous observons la signature d'un accord de phase parfait. Ces conditions sont reproduites expérimentalement et nous obtenons une optimisation de l'émission harmonique avec un nombre de photons XUV (harmoniques d'ordres 15-17 et 19) émis dans du Xe supérieur à 1012 s−1 à la cadence de 100 kHz.
© Owned by the authors, published by EDP Sciences, 2013
This is an Open Access article distributed under the terms of the Creative Commons Attribution License 2.0, which permits unrestricted use, distribution, and reproduction in any medium, provided the original work is properly cited.