Open Access
X-ray diffraction for material science
Publié en ligne : 7 juillet 2009
UVX - Colloques sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et développements récents
L'objectif de la série de colloques UVX est de réunir, au rythme d'une fois tous les deux ans, les scientifiques et industriels travaillant dans le domaine du développement des sources de photons de grande énergie (UV, VUV, et X) et de leurs applications.
En particulier cette manifestation est l'occasion de faire se rencontrer une communauté très pluridisciplinaire (physique, chimie, biologie, sciences de l'univers) liée à des domaines en forte évolution technologique (lasers, optique, matériaux notamment).
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Accès gratuit
Le dépôt de films minces par ablation laser : un procédé confiné à des niches industrielles ?J. Phys. IV France, 09 PR5 (1999) PR5-125-PR5-130
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Accès gratuit
Métrologie des faisceaux et de la tache focale de la LILJ. Phys. IV France, 138 (2006) 297-307
Publié en ligne : 6 janvier 2007
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Contrôle de procédés durant le micro-usinage de céramique par laser à excimèreAnn. Phys. Fr., 19 (1994) C1-253-C1-260
Publié en ligne : 1 juin 2004
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Analyse spectrale de plasmas créés par ablation par laser à excimères de cibles Ge, Si et SiGeAnn. Phys. Fr., 22 (1997) C1-127-C1-128
Publié en ligne : 15 février 1997
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UVX 2012 - 11e Colloque sur les Sourc…
UVX2012 - 11e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
E. Constant, P. Martin et H. Bachau (Eds.)
UVX 2010 - 10e Colloque sur les Sourc…
UVX 2010 - 10e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
A. Calisti, C. Mossé et S. Ferri (Eds.)
UVX 2008 - 9e Colloque sur les Source…
UVX 2008 - 9e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
S. Jacquemot, A. Klisnick et Th. Ruchon (Eds.)