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Optiques multicouches pour l'extrême UV
J. Phys. IV France, 127 (2005) 69-75
UVX - Colloques sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et développements récents
L'objectif de la série de colloques UVX est de réunir, au rythme d'une fois tous les deux ans, les scientifiques et industriels travaillant dans le domaine du développement des sources de photons de grande énergie (UV, VUV, et X) et de leurs applications.
En particulier cette manifestation est l'occasion de faire se rencontrer une communauté très pluridisciplinaire (physique, chimie, biologie, sciences de l'univers) liée à des domaines en forte évolution technologique (lasers, optique, matériaux notamment).
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Le projet français PREUVE, projet d'études et de développement pour la lithographie extrême ultravioletJ. Phys. IV France, 108 (2003) 217-225
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Laser femtoseconde, filamentation, nuage et orageJ. Phys. IV France, 127 (2005) 205-210
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Dynamique sub-picoseconde de l'interaction laser de puissance – agrégats de gaz rare : emission intense de rayons X et production d'ions multichargésJ. Phys. IV France, 108 (2003) 191-194
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Simulation Monte Carlo du transport d'un panache plasma créé par ablation laserJ. Phys. IV France, 09 PR5 (1999) Pr5-135-Pr5-138
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UVX 2012 - 11e Colloque sur les Sourc…
UVX2012 - 11e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
E. Constant, P. Martin et H. Bachau (Eds.)
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UVX 2010 - 10e Colloque sur les Sourc…
UVX 2010 - 10e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
A. Calisti, C. Mossé et S. Ferri (Eds.)
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UVX 2008 - 9e Colloque sur les Source…
UVX 2008 - 9e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
S. Jacquemot, A. Klisnick et Th. Ruchon (Eds.)