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Le dépôt de films minces par ablation laser : un procédé confiné à des niches industrielles ?
J. Phys. IV France, 09 PR5 (1999) PR5-125-PR5-130
UVX - Colloques sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et développements récents
L'objectif de la série de colloques UVX est de réunir, au rythme d'une fois tous les deux ans, les scientifiques et industriels travaillant dans le domaine du développement des sources de photons de grande énergie (UV, VUV, et X) et de leurs applications.
En particulier cette manifestation est l'occasion de faire se rencontrer une communauté très pluridisciplinaire (physique, chimie, biologie, sciences de l'univers) liée à des domaines en forte évolution technologique (lasers, optique, matériaux notamment).
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Open Access
ThomX: A high flux compact X ray sourcePublié en ligne : 21 mars 2011
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Open Access
Femtosecond laser pulse absorption by dielectrics: Surface experiments and modellingPublié en ligne : 21 mars 2011
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Accès gratuit
Dopage laser pour la microélectronique du futurJ. Phys. IV France, 11 PR7 (2001) Pr7-103-Pr7-106
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Accès gratuit
Ablation laser pour la microélectronique plastiqueJ. Phys. IV France, 138 (2006) 213-221
Publié en ligne : 6 janvier 2007
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UVX 2012 - 11e Colloque sur les Sourc…
UVX2012 - 11e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
E. Constant, P. Martin et H. Bachau (Eds.)
UVX 2010 - 10e Colloque sur les Sourc…
UVX 2010 - 10e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
A. Calisti, C. Mossé et S. Ferri (Eds.)
UVX 2008 - 9e Colloque sur les Source…
UVX 2008 - 9e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
S. Jacquemot, A. Klisnick et Th. Ruchon (Eds.)