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2011
UVX 2010 - 10e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
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| Page(s) | 181 - 185 | |
| Section | Affiches | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/uvx/2011025 | |
| Publié en ligne | 21 mars 2011 | |
Étude des multicouches B4C/Mo pour la réalisation des réseaux multicouches alternés à efficacité élevée dans le domaine 1–5 KeV
1 Laboratoire Charles Fabry, Institut d’Optique, Université Paris-Sud, CNRS, Campus Polytechnique, RD 128, 91127 Palaiseau Cedex, France
2 Synchrotron SOLEIL, L’Orme des Merisiers, Saint-Aubin, BP. 48, 91192 Gif-sur-Yvette, France
Ce papier présente une étude de miroirs interférentiels multicouches B4C/Mo en vue d’utilisation dans la fabrication des réseaux MultiCouches Alternés (MCA). L’objectif consiste donc à étudier particulièrement la formation des couches d’interface entre deux matériaux consécutifs. Les multicouches sont déposées sur des substrats polis de silicium. Elles sont caractérisées par réflectométrie en incidence rasante. Les ajustements numériques à l’aide d’un modèle à trois couches montrent la formation à l’échelle nanométrique d’une couche d’inter-diffusion à l’interface B4C/Mo.
© Owned by the authors, published by EDP Sciences, 2011