Impression par laser UV picoseconde pour la micro-électronique organique

Laboratoire Lasers, Plasmas et Procédés Photoniques (LP3), UMR 6182 CNRS – Université de la Méditerranée, C. 917, 13288 Marseille Cedex 9, France

Résumé

La potentialité d’une technique d’écriture directe assistée par laser est démontrée dans le cadre de la fabrication d’un composant électronique de base, le transistor à effet de champ. L’impression de pixels à partir de divers matériaux susceptibles d’intervenir dans la fabrication d’un OFET (conducteur, semi-conducteur, diélectrique...) qu’ils soient organiques ou non, a été réalisée sous l’irradiation à 355 nm d’un laser picoseconde. L’éjection et le dépôt de la matière ont été étudiés comparativement au type de matériau utilisé: métal, polymère ou oligomère sous formes solides, encre à nanoparticules métalliques sous forme liquide. Des informations sur la morphologie des pixels obtenus, sur leur résolution spatiale, sur leur épaisseur ainsi que sur leurs propriétés d’adhésion ont été déduites d’analyses par microscopie optique, électronique à balayage (MEB) et/ou à force atomique (AFM). L’utilisation d’une couche intermédiaire servant à piéger le rayonnement incident et donc à protéger le matériau à imprimer a également été abordée.