Open Access
Numéro |
2011
UVX 2010 - 10e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
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Page(s) | 99 - 105 | |
Section | Exposés invités | |
DOI | https://doi.org/10.1051/uvx/2011014 | |
Publié en ligne | 21 mars 2011 |
UVX 2010 (2011) 99-105
L’endommagement des optiques du LMJ : problématique, mécanismes et métrologie
1 CEA-DAM Cesta, BP. 2, 33114 Le Barp, France
2 CEA-DSM Saclay, 91191 Gif-sur-Yvette, France
Cet article traite de la problématique de l’endommagement laser sur les installations de fortes puissances. La métrologie mise en œuvre pour mesurer la durée de vie des optiques en laboratoire mais également sur chaîne est exposée. Quelques mécanismes à l’origine de l’endommagement laser sont également présentés ainsi que des solutions mises en œuvre afin de réduire les niveaux d’endommagement.
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