Open Access
Numéro
UVX 2008
2009
UVX 2008 - 9e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
Page(s) 183 - 187
DOI https://doi.org/10.1051/uvx/2009030
Publié en ligne 7 juillet 2009
UVX 2008 (2009) 183-187
DOI: 10.1051/uvx/2009030

Stabilité thermique des performances spectrales de miroirs EUV

C. Hecquet1, F. Delmotte1, M. Rouillay2, A. Rinchet3, F. Varnière1, E. Melchakov1 et M.-F. Ravet-Krill1

1  Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique, Campus Polytechnique, 91127 Palaiseau, France
2  Laboratoire d'Interaction du Rayonnement X avec la Matière, Bât. 350, 91405 Orsay, France
3  Sagem DS, Avenue de la Tour Maury, 91280 St. Pierre du Perray, France


Publié en ligne le 7 juillet 2009

Résumé
Le développement de miroirs EUV résistant à des températures élevées représente un enjeu important pour la lithographie EUV. Nous avons optimisé et déposé plusieurs empilements multicouches Mo/SiC/Si/SiC en faisant varier les épaisseurs respectives de SiC aux deux interfaces. Ces différents types d'empilements ont ensuite subi une série de recuits thermiques pour évaluer l'influence des deux paramètres temps et température de recuit, sur les performances spectrales. Des structures stables après un recuit de 200 h à 400 °C ont été optimisées et caractérisées.



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