Open Access
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UVX 2008
2009
UVX 2008 - 9e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
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| Page(s) | 183 - 187 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/uvx/2009030 | |
| Publié en ligne | 7 juillet 2009 | |
UVX 2008 (2009) 183-187
DOI: 10.1051/uvx/2009030
1 Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique, Campus Polytechnique, 91127 Palaiseau, France
2 Laboratoire d'Interaction du Rayonnement X avec la Matière, Bât. 350, 91405 Orsay, France
3 Sagem DS, Avenue de la Tour Maury, 91280 St. Pierre du Perray, France
Publié en ligne le 7 juillet 2009
© EDP Sciences 2009
DOI: 10.1051/uvx/2009030
Stabilité thermique des performances spectrales de miroirs EUV
C. Hecquet1, F. Delmotte1, M. Rouillay2, A. Rinchet3, F. Varnière1, E. Melchakov1 et M.-F. Ravet-Krill11 Laboratoire Charles Fabry de l'Institut d'Optique, Campus Polytechnique, 91127 Palaiseau, France
2 Laboratoire d'Interaction du Rayonnement X avec la Matière, Bât. 350, 91405 Orsay, France
3 Sagem DS, Avenue de la Tour Maury, 91280 St. Pierre du Perray, France
Publié en ligne le 7 juillet 2009
Résumé
Le développement de miroirs EUV résistant à des températures élevées représente un enjeu important pour la lithographie EUV. Nous avons optimisé et déposé plusieurs empilements multicouches Mo/SiC/Si/SiC en faisant varier les épaisseurs respectives de SiC aux deux interfaces. Ces différents types d'empilements ont ensuite subi une série de recuits thermiques pour évaluer l'influence des deux paramètres temps et température de recuit, sur les performances spectrales. Des structures stables après un recuit de 200 h à 400 °C ont été optimisées et caractérisées.
© EDP Sciences 2009