Open Access
| Numéro |
UVX 2008
2009
UVX 2008 - 9e Colloque sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X ; Applications et Développements Récents
|
|
|---|---|---|
| Page(s) | 163 - 167 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/uvx/2009026 | |
| Publié en ligne | 7 juillet 2009 | |
UVX 2008 (2009) 163-167
DOI: 10.1051/uvx/2009026
1 GREMI, CNRS/Université d'Orléans, BP. 6744, 45067 Orléans, France
2 INEL, Z.A. - C.D. 405, 45410 Artenay, France
Publié en ligne le 7 juillet 2009
© EDP Sciences 2009
DOI: 10.1051/uvx/2009026
Production de rayons X par plasma ECR
N. Majeri1, 2, C. Cachoncinlle1, S. Dozias1, E. Robert1, R. Viladrosa1, J.-M. Pouvesle1, S. Milsant1 et M. Hugnot21 GREMI, CNRS/Université d'Orléans, BP. 6744, 45067 Orléans, France
2 INEL, Z.A. - C.D. 405, 45410 Artenay, France
Publié en ligne le 7 juillet 2009
Résumé
Dans certaines conditions opératoires, les plasmas créés par résonance cyclotronique électronique, ECR, génèrent des rayons X sur une grande gamme d'énergie s'étendant de 1 à plus de 200 keV. Ce type de source à l'origine développée à l'école Polytechnique, est actuellement en cours d'étude au GREMI en collaboration avec l'industriel INEL qui exploite le brevet. La nouvelle source permet de produire des doses de 1mGy/s à 1 mètre. On présentera les caractéristiques spectrales de la source en fonction de différents paramètres : pressions, puissances injectées, séparation des aimants. L'insertion d'une cible a permit d'obtenir une source plus intense et plus ponctuelle.
© EDP Sciences 2009