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Numéro
J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
Page(s) 9 - 12
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:20030585


J. Phys. IV France
108 (2003) 9
DOI: 10.1051/jp4:20030585

Des lasers à excimères pour cristalliser le silicium des écrans plats : pourquoi ? comment ?

C. Prat

New Display Technologies Laboratory, Thomson Multimedia R&D France, 1 avenue Belle Fontaine, 35511 Cesson Sevigne, France

Résumé
Les contraintes techniques et économiques de la fabrication d'écrans plats à cristaux liquides à matrice active ont suscité de nombreuses études de procédés de cristallisation de couches minces de silicium par laser à excimères, exploitant principalement trois types de phénomènes physiques, dans le but d'obtenir des cristaux micrométriques les plus uniformes possible.



© EDP Sciences 2003