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Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
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Page(s) | 9 - 12 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030585 |
J. Phys. IV France 108 (2003) 9
DOI: 10.1051/jp4:20030585
Des lasers à excimères pour cristalliser le silicium des écrans plats : pourquoi ? comment ?
C. PratNew Display Technologies Laboratory, Thomson Multimedia R&D France, 1 avenue Belle Fontaine, 35511 Cesson Sevigne, France
Résumé
Les contraintes techniques et économiques de la fabrication d'écrans plats à cristaux liquides à matrice
active ont suscité de nombreuses études de procédés de cristallisation de couches minces de silicium par laser à
excimères, exploitant principalement trois types de phénomènes physiques, dans le but d'obtenir des cristaux
micrométriques les plus uniformes possible.
© EDP Sciences 2003