| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 108, juin 2003
|
|
|---|---|---|
| Page(s) | 59 - 59 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:20030596 | |
J. Phys. IV France 108 (2003) 59
DOI: 10.1051/jp4:20030596
Étude des processus physico-chimiques dans un plasma produit par ablation laser pour la croissance de couches minces
C. Dutouquet1 and J. Hermann21 GREMI, UMR 6606 du CNRS, Université d'Orléans, BP. 6744, 45067 Orléans cedex 2, France
2 LP3, FRE 2165 du CNRS, Faculté des Sciences de Luminy, Case 917, 13288 Marseille cedex 9, France
Résumé
Un diagnostic d'imagerie de fluorescence induite par laser (LIF) a été employé pour mesurer des
densités d'atomes et de molécules dans leur état fondamental lors de l'ablation de cibles de Ti et AI par un
faisceau laser en présence d'un gaz réactif de N
2 ou O
2 à une pression de quelques dizaines de pascals. Une
cartographie de densité en échelle absolue du panache plasma a ainsi été obtenue à l'aide de mesures
complémentaires de spectroscopie d'absorption. De plus, des calculs basés sur un modèle d'équilibre
thermodynamique local (ETL) ont été effectués afin de prédire la formation des molécules diatomiques par
réactions chimiques dans un plasma de mélange vapeur-gaz dans des conditions similaires à celles du
processus d'ablation laser. L'ensemble des résultats met en évidence le rôle des réactions chimiques en phase
plasma dans la synthèse de couches minces par ablation laser réactive.
© EDP Sciences 2003