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Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 09, Numéro PR5, May 1999
4e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et XApplications et développements récents |
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Page(s) | Pr5-139 - Pr5-142 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:1999542 |
4e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 09 (1999) Pr5-139-Pr5-142
DOI: 10.1051/jp4:1999542
Groupe Interdisciplinaire Ablation Laser et Applications, IRPHE, UMR 6594, GPEC, UMR 6631, IUSTI, UMR 6595, Campus de Luminy, Case 918, 13288 Marseille cedex 9, France
© EDP Sciences 1999
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 09 (1999) Pr5-139-Pr5-142
DOI: 10.1051/jp4:1999542
Modélisation de l'expansion hydrodynamique d'un panache d'ablation laser
M.L. Sentis, H.C. Le, W. Marine, J.D. Parisse and D. ZeitounGroupe Interdisciplinaire Ablation Laser et Applications, IRPHE, UMR 6594, GPEC, UMR 6631, IUSTI, UMR 6595, Campus de Luminy, Case 918, 13288 Marseille cedex 9, France
Résumé
L'étude présentée porte sur la simulation 2-D de l'expansion d'un plasma induit par ablation laser UV sous atmosphère neutre. L'écoulement bidimensionnel, axisymètrique, instationnaire, dissipatif et ionisé est étudié par la résolution des équations de Navier-Stokes. L'ablation laser étudiée est celle d'un matériau simple, le silicium (Si) sous atmosphère d'argon ou d'hélium. L'écoulement est constitué de quatre espèces monoatomiques Si, Si+, électrons et Ar/He. L'ionisation est considérée hors équilibre et caractérisée par des processus tels que l'ionisation par impact électronique, la recombinaison à trois corps et la recombinaison radiative.
© EDP Sciences 1999