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Numéro
J. Phys. IV France
Volume 09, Numéro PR5, May 1999
4e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X
Applications et développements récents
Page(s) Pr5-139 - Pr5-142
DOI https://doi.org/10.1051/jp4:1999542
4e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X
Applications et développements récents

J. Phys. IV France 09 (1999) Pr5-139-Pr5-142

DOI: 10.1051/jp4:1999542

Modélisation de l'expansion hydrodynamique d'un panache d'ablation laser

M.L. Sentis, H.C. Le, W. Marine, J.D. Parisse and D. Zeitoun

Groupe Interdisciplinaire Ablation Laser et Applications, IRPHE, UMR 6594, GPEC, UMR 6631, IUSTI, UMR 6595, Campus de Luminy, Case 918, 13288 Marseille cedex 9, France


Résumé
L'étude présentée porte sur la simulation 2-D de l'expansion d'un plasma induit par ablation laser UV sous atmosphère neutre. L'écoulement bidimensionnel, axisymètrique, instationnaire, dissipatif et ionisé est étudié par la résolution des équations de Navier-Stokes. L'ablation laser étudiée est celle d'un matériau simple, le silicium (Si) sous atmosphère d'argon ou d'hélium. L'écoulement est constitué de quatre espèces monoatomiques Si, Si+, électrons et Ar/He. L'ionisation est considérée hors équilibre et caractérisée par des processus tels que l'ionisation par impact électronique, la recombinaison à trois corps et la recombinaison radiative.



© EDP Sciences 1999