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| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 09, Numéro PR5, May 1999
4e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et XApplications et développements récents |
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|---|---|---|
| Page(s) | PR5-125 - PR5-130 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:1999539 | |
4e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 09 (1999) PR5-125-PR5-130
DOI: 10.1051/jp4:1999539
Alcatel CIT, Établissement de Marcoussis, route de Nozay, 91460 Marcoussis, France
© EDP Sciences 1999
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 09 (1999) PR5-125-PR5-130
DOI: 10.1051/jp4:1999539
Le dépôt de films minces par ablation laser : un procédé confiné à des niches industrielles ?
D. ChambonnetAlcatel CIT, Établissement de Marcoussis, route de Nozay, 91460 Marcoussis, France
Résumé
Le procédé PLD permet la réalisation de films minces de composition complexe, en particulier des oxydes. Les principaux mécanismes intervenant dans le procédé sont rappelés, notamment celui à l'origine de la production des gouttelettes, qui constitue le principal défaut du procédé. L'application à des niches industrielles est ensuite évoquée pour les supraconducteurs à haute température critique, le carbone adamantin et les films d'oxydes à gradient de composition. Enfin, une géométrie ainsi qu'une technique d'élimination des gouttelettes sont présentées.
© EDP Sciences 1999