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| Numéro |
J. Phys. IV France
Volume 09, Numéro PR5, May 1999
4e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et XApplications et développements récents |
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|---|---|---|
| Page(s) | Pr5-43 - Pr5-44 | |
| DOI | https://doi.org/10.1051/jp4:1999515 | |
4e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 09 (1999) Pr5-43-Pr5-44
DOI: 10.1051/jp4:1999515
1 Laboratoire de Physique des Milieux Ionisés, UMR 7648, École Polytechnique, 91128 Palaiseau cedex, France
2 Laboratoire de Dynamique des Ions, Atomes et Molécules, Case 75, Université Pierre et Marie Curie, 4 place Jussieu, 75252 Paris, France
© EDP Sciences 1999
Applications et développements récents
J. Phys. IV France 09 (1999) Pr5-43-Pr5-44
DOI: 10.1051/jp4:1999515
Source compacte de rayons X basée sur la résonance cyclotronique électronique
C. Gaudin1, C. Rouillé1, K. Serebrennikov1, J.M. Buzzi1, M. Bacal1, M. Lamoureux2 and P. Charles21 Laboratoire de Physique des Milieux Ionisés, UMR 7648, École Polytechnique, 91128 Palaiseau cedex, France
2 Laboratoire de Dynamique des Ions, Atomes et Molécules, Case 75, Université Pierre et Marie Curie, 4 place Jussieu, 75252 Paris, France
Résumé
Une source ECR compacte a été construite en vue de produire des rayons X pour des applications médicales et technologiques. Le plasma est créé par une micro-onde (2,45 GHz) injectée dans un miroir magnétique et un anneau d'électrons chauds a été repéré dans le plan médian. L'analyse des spectres de rayonnement de freinage émis par le plasma a montré que le paramètre de température de ces électrons pouvait atteindre 20 keV. Une cible a été introduite au voisinage de l'anneau pour obtenir un débit de dose satisfaisant.
© EDP Sciences 1999