UVX 1996 : 3e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X

UVX 1996 - 3e Colloque sur les Sources cohérentes et incohérentes UV, VUV et X - Applications et développements récents
le Mont Sainte Odile, France, 20-23 mai 1996
Eric Fogarassy (Ed.)
Publié dans Annales de physique, No. C1 (février-avril 1997)

Présentation

Depuis une vingtaine d'années, la communauté scientifique internationale s'est fortement impliquée dans la mise au point et le développement de nouvelles sources de photons de forte énergie dans un large domaine spectral, depuis l'ultraviolet jusqu'au rayonnement X. grâce aux puissants moyens engagés par la communauté nationale, la recherche française a pris une part importante aux succès enregistrés dans ce domaine. Ils concernent, entre autres, les lasers à excimères et les lasers à électrons libres pour la production de photons UV et VUV, la génération d'impulsions ultra-brèves et le rayonnement synchrotron. Aujourd'hui, la mise à disposition de ces outils pour la recherche appliquée ouvre des perspectives technologiques très prometteuses dans des domaines aussi divers que le traitement et la synthèse des matériaux, en métallurgie, en micro- et en optoélectronique, dans des applications biomédicales, l'imagerie et la détection de rayonnements, le diagnostic et le contrôle in-situ, enfin pour la décontamination et la dépollution par voies photochimiques.

Le troisième colloque UVX-96 sur les " Sources cohérentes et incohérents UV, VUV et X. Applications et développements récents " qui s'est tenu en Alsace, au Mont Sainte Odile du 20 au 23 mai 1996, avait pour objectifs principaux de :

• réunir des chercheurs et industriels intéressés par les applications et les développements les plus récents obtenus sur les sources UV, VUV et X, cohérentes et incohérentes ;
• dresser un bilan de la production et des applications des photons à haute énergie ;
• préciser des besoins et dégager des axes communs de développement en favorisant les échanges d'idées et de résultats entre des groupes aux spécificités souvent complémentaires ;
• susciter de nouvelles collaborations entre les laboratoires et le monde industriel.

Le programme scientifique d'UVX-96 était composé de trente-huit conférences invitées, de deux séances d'affiches permettant à un maximum de jeunes chercheurs de présenter leurs travaux les plus récents et de deux tables rondes. On peut classer l'ensemble des sujets abordés en sept thèmes principaux, relevant soit de la production soit de l'utilisation des photons à haute énergie et intéressant, aussi bien, des études à caractère fondamental que les recherches finalisées. Ils concernent : les sources cohérentes et incohérentes UV, VUV, et X, les processus de photo-émission dans les solide et les gaz photo-excités, la spectroscopie et l'imagerie des plasmas UV, VUV, et X, les optiques diffractives pour le rayonnement X et XUV, la photobiologie et les applications biomédicales, les applications des lasers UV à la modification des surfaces et au micro-usinage, enfin les dépôts en couches minces par ablation laser et par voie photochimique.

Ces journées ont aussi permis de dresser un bilan très complet de l'état d'avancement et des perspectives de la recherche nationale dans le domaine des photons de forte énergie. Il a aussi mis en évidence l'importance prise par les technologies " photoassistées " dans deux domaines clés : d'une part, les procédés dits " propres ", d'autre part, en photobiologie et en médecine, thèmes qui ont fait l'objet des deux tables rondes organisées avec la participation très active des industriels concernés.

La table ronde sur les procédés " propres " par photons UV a été l'occasion de discussions très fructueuses entre fabricants et utilisateurs de lasers. De l'avis général, il y a nécessité d'adapter au mieux la source à l'application envisagée. Les questions de fiabilité des lasers à excimères et de leur sécurité d'emploi restent plus que jamais à l'ordre du jour. Elles pourraient limiter l'utilisation des sources à excimères, en milieu industriel, sauf lorsqu'elles apportent une réelle innovation, comme en photolithographie, pour le micro-usinage de certains matériaux " durs " ou " transparents ", le traitement de surface des polymères en vue d'améliorer, par exemple, leurs propriétés de collage ou encore pour la fabrication de transistors en couches minces au silicium polycristallin. Parallèlement, les fabricants français de lasers solides travaillant dans l'UV (par exemple : lasers Nd :YAG triplés ou quadruplés), ont fait de gros progrès et seraient susceptibles de concurrencer, à terme, le marché des excimères. Le nettoyage des monuments historiques, par ablation laser, représente, aujourd'hui, une application élégante de ce type de sources.

La table ronde, consacrée aux applications des sources UV en biologie et en médecine, a représenté une ouverture de UVX aux " Sciences du Vivant ". Au-delà de leur motivation personnelle pour des sujets relevant de la santé publique, tels que la cancérogénèse par rayonnement UV et X, les applications cliniques des lasers à excimères en ophtalmologie ou le traitement des eaux polluées par photons UV, les participants ont relevé la nécessité de mieux comprendre les phénomènes très complexes d'interaction des rayonnements UV et X avec la matière organique, en travaillant dans le cadre de programmes de recherches interdisciplinaires.

De l'avis général des participants, aux deux tables rondes, les nouvelles sources de photons à haute énergie, disponibles aujourd'hui, telles que les lasers UV à impulsions ultra-brèves et les sources X cohérentes et incohérentes, représentent des outils originaux et performants pour le recherche fondamentale mais aussi pour la mise au point de nouvelles technologies. Ainsi l'utilisation de lasers picosecondes ou femtosecondes permettrait d'améliorer considérablement la qualité et la résolution des microgravures de surface dans certains matériaux, en réduisant les effets thermiques néfastes. Enfin, on note un intérêt croissant des industriels et du monde médical pour les applications des sources de photons X, en photolithographie, pour les nanotechnologies et dans le domaine de l'imagerie.

Comme les éditions précédentes de Carry-le-Rouet, en 1992, et de Nouan-le-Fuzelier, en 1994, le colloque du Mont Sainte Odile a ainsi constitué un carrefour privilégié d'échange des connaissances scientifiques et du savoir-faire technologique français dans le domaine hautement interdisciplinaire de l'interaction photon-matière.

Que tous les participants à titres divers : organisateurs et membres du comité scientifique, conférenciers invités, responsables d'organismes nationaux et industriels qui nous ont apporté leur soutien financier, chercheurs, doctorants, soient ici chaleureusement remerciés pour la part qui leur revient au succès de UXV-96. Formons, enfin, le vœu qu'une communauté encore élargie contribue à la réussite du prochain colloque prévu en 1998

Organisateurs, Comité scientifique

Organisateurs

C. Bamière (SGDN)
M.C. Castex (LPL)
E. Fogarassy (CNRS-PHASE)
J.M. Pouvesle (GREMI)

Comité scientifique

J.C. André (CNRS-SPI)
C. Bamière (SGDN)
V. Baudinaud (Aérospatiale)
R. Bensasson (CNRS-INSERM)
P. Bradu (DRET)
G. Briard (MI)
A. Brun (MESR)
M.C. Castex (LPL)
A. Diard (Quantel)
J.L. Dumas (Air Liquide)
E. Fogarassy (CNRS-PHASE)
B. Fontaine (IMFM)
O. Fréneaux (IREPA-LASER)
J.C. Gauthier (CNRS-SPI)
J.P. Gex (SYLAREC)
P. Jaegle (LSAI)
H. Launois (L2M)
I. Nenner (LURE)
J.M. Pouvesle (GREMI)
D. Pribat (Thomson-LCR)
G. Riboulet (BMI)
D. Schirmann (CEA)
M. Stehle (SOPRA)

Parrainages

• CNRS
• SGDN
• DGA
• CEA
• Conseil Régional d'Alsace