UVX - Colloques sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et développements récents

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Développement d'une source plasma-laser pour la lithographie dans l'extrême ultraviolet

G. Soullié, C. Lafon, R. Rosch, D. Babonneau, F. Garaude, S. Huelvan, T. Trublet, L. Bonnet et R. Marmoret

J. Phys. IV France, 108 (2003) 275-279

DOI: 10.1051/jp4:20030643

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