UVX - Colloques sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et développements récents

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Optimisation des paramètres de dépôt de DLC par ablation laser U.V. de carbone vitreux

J.C. Orlianges, C. Champeaux, A. Catherinot and P. Blondy

J. Phys. IV France, 108 (2003) 67-70

DOI: 10.1051/jp4:20030598

J.C. Orlianges

C. Champeaux

A. Catherinot

P. Blondy

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