UVX - Colloques sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et développements récents

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Cristallisation du silicium amorphe par laser à excimères

D. Pribat, P. Legagneux, F. Plais, F. Petinot, O. Huet et C. Reita

Ann. Phys. Fr., 22 (1997) C1-213-C1-224

Publié en ligne : 15 février 1997

DOI: 10.1051/anphys/1997042

D. Pribat

P. Legagneux

F. Plais

F. Petinot

O. Huet

C. Reita

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