UVX - Colloques sur les Sources Cohérentes et Incohérentes UV, VUV et X : Applications et développements récents

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Réacteur VUV à décharge interne pour le dépôt en couches minces de silicium amorphe, d'oxyde et de nitrure de silicium

C. Fuchs, R. Henck et E. Fogarassy

Ann. Phys. Fr., 17 (1992) 59-60

Publié en ligne : 1 juin 2004

DOI: 10.1051/anphys/1992011

C. Fuchs

R. Henck

E. Fogarassy

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