Développement d'une source EUV plasma laser pour la micro-lithographie M. Segers, M. Bougeard, E. Caprin, T. Ceccotti, F. Chichmanian, D. Descamps, P. Haltebourg, J.-F. Hergott, S. Hulin, D. Normand, M. Schmidt et O. SublemontierJ. Phys. IV France, 108 (2003) 267-270DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:20030641
