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Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

S. Bollanti, F. Bonfigli, P. Di Lazzaro, A. Faenov, F. Flora, G. Giordano, T. Letardi, T. Limongi, L. Mezi, D. Murra, T. Pikuz, L. Palladino, A. Reale, L. Reale, A. Ritucci, A. Scafati, G. Tomassetti, A. Vitali et C. E. Zheng

J. Phys. IV France, 11 PR7 (2001) Pr7-133-Pr7-134

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001743

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