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Décharge capillaire compacte et ultra-brève pour la lithographie UV extrême par projection

P. Choi, I. Krisch, J. Larour, C. Dumitrescu, M. Favre, A. Chuvatin, J. Rous, C. Leblanc et A. Guilbert

J. Phys. IV France, 11 PR7 (2001) Pr7-29-Pr7-30

DOI: https://doi.org/10.1051/jp4:2001710

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